超高真空双倾角室蒸发设备

技术参数 ：

1UHV超高真空腔体：2腔室，负荷锁和蒸发，负荷锁极限真空 极限压力<1E-8 Torr，可加热RT-900ºC

2蒸发腔：极限真空 极限压力<3e-9 Torr

3高分辨率镀膜速率显示及控制 ：±0.015，Å100mm镀膜均一性<3%

4基板操控能力：可实现180度倾斜及360度旋转，0.1度的精准控制，加热RT-600ºC

5传输 ：全自动样品传输

6人机界面：全自动化人机操作界面

7安全：工业标准安全互锁，工业安全联锁，报警装置

厦门韫茂科技有限公司凭借在先进材料设备业务方面多年的经验，韫茂为新型芯片，半导体和锂电池领域的新材料开发和生产，提供***的纳米工艺设备和服务解决方案。根据您的特殊需求，我们为您定制打造创新纳米加工平台，保证高品质的设计，多功能，易于使用的界面，严格的安全控制，以及快速的交付和服务。